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品牌	昊量光電	產(chǎn)地類別	國(guó)產(chǎn)
應(yīng)用領(lǐng)域	綜合

紫外-可見(jiàn)光單光子計(jì)數(shù)面陣相機(jī)：

當(dāng)國(guó)際品牌還在為突破2計(jì)數(shù)/s·cm2的暗噪聲極限掙扎時(shí)，這款國(guó)產(chǎn)單光子計(jì)數(shù)面陣探測(cè)器已實(shí)現(xiàn)＜1的超低暗噪！它用Φ70mm超大靶面（比主流產(chǎn)品大40%）和225萬(wàn)高像素（1500×1500@≤45μm）重新定義光子成像邊界，極紫外量子效率飆升至25%以上（競(jìng)品僅15%），在深空探測(cè)中能捕捉冥王星軌道級(jí)別的微弱紫外輻射，電暈檢測(cè)中可識(shí)別比頭發(fā)絲放電弱十倍的5p電流，更以350K/s計(jì)數(shù)率將熒光壽命成像成本降低90%——這不僅是參數(shù)碾壓，更是為航天預(yù)警、痕量檢測(cè)等領(lǐng)域打造的國(guó)產(chǎn)超靈敏“光子之眼"，讓曾經(jīng)被歐美壟斷的探測(cè)器從此有了中國(guó)答案！

紫外-可見(jiàn)光單光子計(jì)數(shù)面陣相機(jī)核心優(yōu)勢(shì)

1. 極限靈敏度突破

暗噪聲：≤1 計(jì)數(shù)/s·cm2（Photonis Planacon XP8500 為2.5計(jì)數(shù)/s·cm2，Hamamatsu VUV4約1.8計(jì)數(shù)/s·cm2）

量子效率：極紫外波段（10120nm）QE超25%（競(jìng)品平均＜15%），陰極材料可定制優(yōu)化全波段響應(yīng)

2. 大靶面高分辨率碾壓

有效面積：≥Φ70mm（主流競(jìng)品≤Φ50mm，如Andor iStar 340T為Φ40mm）

像元密度：1500×1500像元（競(jìng)品普遍≤1024×1024），像元尺寸≤45μm（Photonis MCPPMT典型值53μm）

3. 動(dòng)態(tài)范圍與速度

計(jì)數(shù)率：350K/s（Hamamatsu Flat Panel PMT上限約200K/s）

抗飽和能力：強(qiáng)光瞬態(tài)保護(hù)技術(shù)解決emccd/Iccd的過(guò)曝痛點(diǎn)

4. 國(guó)產(chǎn)化專屬優(yōu)化

航天級(jí)可靠性：抗輻照設(shè)計(jì)（競(jìng)品未公開(kāi)此項(xiàng)）、真空密封壽命＞10萬(wàn)小時(shí)

成本優(yōu)勢(shì)：售價(jià)僅為進(jìn)口同類設(shè)備的6070%，支持定制化光譜響應(yīng)

國(guó)際競(jìng)品技術(shù)短板對(duì)比

參數(shù)	國(guó)產(chǎn)探測(cè)器	國(guó)際主流競(jìng)品
暗計(jì)數(shù)率	≤1 計(jì)數(shù)/s·cm2	1.5-3 計(jì)數(shù)/s·cm2
有效探測(cè)直徑	≥Φ70mm	Φ40-50mm（MCP-PMT類）
像元數(shù)	225萬(wàn)（1500×1500）	≤105萬(wàn)（1024×1024典型）
極紫外QE（20nm）	25%-30%	12%-18%（需特殊涂層）

技術(shù)指標(biāo)	數(shù)值
工作波段	10nm~700nm (根據(jù)使用波段,可更換不同陰極材料)
有效探測(cè)面積	≥中70mm
等效像元尺寸	≤45um
像元數(shù)	≥1500x1500
暗計(jì)數(shù)率	≤1計(jì)數(shù)/sNaN2
計(jì)數(shù)率	350K/s

應(yīng)用場(chǎng)景性價(jià)值

深空探測(cè)：70mm大靶面提升視場(chǎng)角30%+，NASA太陽(yáng)軌道探測(cè)器同類設(shè)備靶面僅Φ25mm

電暈檢測(cè)：暗噪聲降低60%，可識(shí)別≤5pA的微弱放電（競(jìng)品閾值約10pA）

熒光壽命成像：350K/s計(jì)數(shù)率支持納秒級(jí)動(dòng)力學(xué)捕捉，替代百萬(wàn)級(jí)進(jìn)口 streak camera

在大靶面、高分辨率、極紫外響應(yīng)三大維度建立技術(shù)壁壘，為航天國(guó)防及科研提供自主可控的探測(cè)工具。

紫外-可見(jiàn)光單光子計(jì)數(shù)面陣相機(jī)

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